該系列化學真空系統經證實可用于許多蒸發過程的真空獲取或控制。該系統使一個泵同時進行兩個真空操作成為可能。它的基礎泵為MD 4C NT三級化學隔膜泵，可滿足大部分沸點溶劑的真空要求。該泵的抽速足夠大，允許同時進行兩個大氣載的操作。該真空系統配備一個帶電磁閥的CVC 3000真空控制器進行電子真空控制。另一個真空端口連接一個手動流量控制閥進行有效地抽速控制。兩個真空端口都內置止回閥，防止交叉污染。

性能特性

CVC 3000真空控制器非常易于操作，文本菜單清晰，內置放氣閥  

在較高真空度下仍具有好的性能  

使用氣鎮仍能達到很好的真空 

大抽速可實現兩個獨立的真空應用并行操作；內置止回閥防止交叉污染

溶劑回收系統，使其成為一款環境友好的產品

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